第815章 不配拥有名字的大CPU(求订)(4 / 6)

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  似乎知道方年会有疑惑,说到这里,温叶特地补充了几句:“duv浸入式光刻实际上一直可以支持到7纳米制程的光刻;
  根据晶圆试验线的负责教授解释:
  传统国际半导体技术蓝图定义光刻制程技术节点的是最小金属间距。
  又根据一个瑞利公式:cd=k1x(λna),降低波长λ,提高镜头的数值孔径na,降低综合因素k1,即可不断演进光刻制程。
  duv激光光源从90年代末至今就一直是停滞在193nm波长;
  不过有人提出了新的方案,一个工程上很简单的办法,在晶圆光刻胶上加1mm厚的水,水可以把193nm的光波长折射成134nm,再做到半周期65nm;
  总之……
  晶圆实验室的教授很有信心保证能在较短时间内突破至65纳米光刻,之后可能会漫长一点,但也不会是太久远的事情。”
  一口气照本宣科的说完,温叶并未多停顿,继续解释。
  “虽然梼杌实验室牵头的euv光刻研发进展十分缓慢,但因为从欧美国家收购的各类技术等等;
  对duv光刻机的研发推动工作很有帮助。”
  “……”
  最后,温叶总结:“截止目前,就是这些项目有确切成果。”
  “小谷负责的胜遇4g组网方案实际实验,还需要一点点时间,应该是在四月底能完成。”
  听温叶完全说完后,方年稍作沉吟:“也就是说,梼杌一点都不重视的duv光刻进展神速,去年最后一个季度投入了70亿,今年第一季度又投入十数亿的euv进展龟速?”
  “也可以这么理解。”温叶无奈回答,“国内无论是梼杌还是协调的那些单位,在euv方面的积累可以称之为0。”
  方年咂咂嘴:“还真是有点意外。”
  接着方年看了眼温叶,话锋一转:“不过温秘,你连个照本宣科都整不明白?
  实验室那台duv光刻机要硬上的话,现在就可以生产65纳米,只是在没调整镜头等硬件的情况下,良率会爆炸,无非是多重光照罢了。”
  温叶:“……”
  她忍不住腹诽:以为谁都跟你个大(b)佬(t)一样,什么都懂?
  方年也没想要温叶回答,自顾自问了下去:“神龙511的失败有更具体的汇报吗?”
  温叶回答:“苏姿丰的完整汇报上有解释,神龙511要达到的性能指标是神龙1号的两倍,但实际上没有这么好,实验室经过实际验证,发现架构不存在问题,不过有优化的地方。”
  方年嗯了声,又问:“服务器cpu呢?”
  温叶回答道:“单片性能与主流服务器cpu,比如intel至强e5系列相比,差很远;
  严格来说,虽然也是类桌面级cpu,但性能要求完全不是一个等级,使用环境也大相径庭,所以白泽其实也可以说是零基础;
  所以,白泽的大cpu小组十分希望这款cpu能用于实际环境,以收集更多的实际数据,供研发设计。”
  “……”
  听温叶说完,方年沉默了片刻,才缓缓开口:“大cpu项目组至今为止的研发投入是多少?”
  一般人不会准备这些数字。 ↑返回顶部↑

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